Auf der fundierten Grundlage einer detaillierten Studie von 2002, positiven Signalen aus der Industrie und grünem Licht durch die Landesregierung für die Unterstützung der IMEC-Initiative einer Forschungsplattform für 300 mm Silizium hat der Vorstand die Errichtung eines neuen Reinraums für 300 mm bekannt gegeben.


Im Februar 2003 werden die Bauarbeiten für den neuen Fertigungsbereich für die Forschung mit einer Fläche von 2200 m2 beginnen und voraussichtlich in 18 Monaten beendet sein. Ein schrittweises Hochfahren der Forschungseinrichtung dürfte voraussichtlich ab Mitte 2005 erfolgen. Das Gesamtvolumen der zugehörigen Investition beläuft sich auf 84 Mio. Euro, wobei etwas mehr als 37 Mio. Euro von der Landesregierung zur Verfügung gestellt werden.


Die neue Fertigung für die Forschung liegt ganz in der Nähe bereits bestehender IMEC-Einrichtungen, um den Informationsaustausch sicher zu stellen und zu optimieren sowie gemeinsame Dienste, Infrastruktur und Metrologie-Tools zu nutzen.


IMEC wird dazu ein Forschungsprogramm einrichten, dessen Zielrichtung sich an den wichtigsten Punkten der „International Technology Roadmap for Semiconductors“ für den Sub-45-nm-Bereich orientiert. Dabei liegen die Schwerpunkte auf EUV-Lithographie, neuen Materialien, neuartigen Bauteilen und innovativen Verbindungstechniken. Das Programm wird weltweit für Halbleiter-Unternehmen sowie Materiallieferanten und Gerätehersteller offen sein.


„Wir haben weltweit sehr starke Signale aus der Industrie bekommen, daß der Wunsch besteht, weiterhin mit IMEC gemeinsam Vorfeld-Forschung für die 300-mm-Ära durchzuführen,“ stellt Prof. Gilbert Leclerck, Präsident und CEO von IMEC fest. „Die Forschungseinrichtung für 300 mm wird uns in die Lage versetzen, die Anfragen der Industrie nach Forschungsleistungen der Weltklasse auf den Gebieten der Prozessschritte, Materialien und Bauteile für die Sub-45-nm-Technologie für die gesamten CMOS-Bandbreite und darüber hinaus erfüllen zu können.“