Honolulu (2006 Symposium on VLSI Technology) – 14. Juni 2006 – Freescale Semiconductor hat eine neuartige CMOS-Technologie demonstriert, die auf so genannte ‚Strained Silicon-on-Insulator‘-Substrate (SOI) setzt – ein Durchbruch, der für Halbleiterbausteine der nächsten Generation eine drastische Leistungssteigerung bei gleichzeitiger Senkung der Stromaufnahme bedeuten könnte.


Die Technologie, die durch neuartige ‚Hybrid-Strain‘-Verfahren möglich geworden ist, bietet die Leistungsdaten von SOI, und das in Kombination mit der besseren Ladungsträgerbeweglichkeit von so genanntem ‚Strained Silicon‘. Im Vergleich mit herkömmlichen Technologien zeichnen sich die in der neuen Technologie realisierten Transistoren durch mehr als 30 Prozent bessere Leistungsdaten aus. Bei gleicher Rechenleistung kann daher die Stromaufnahme im aktiven Betrieb um mehr als 40 Prozent abgesenkt werden.


“Das Rennen um eine immer weitere Reduktion der Stromaufnahme sowohl im aktiven als auch im Standbybetrieb und immer bessere Transistordaten zwingt die Industrie dazu, kreative und unkonventionelle Wege für eine weitere Skalierung zu beschreiten,” erklärte Suresh Venkatesan, Direktor der ‚Austin Silicon Technology Solutions‘ im Hause Freescale. “Freescale wagt sich unter Verwendung neuartiger Materialien, Strukturen und Prozesse mit seiner Transistor-Roadmap auf neues Terrain vor, wie dieser technologische Durchbruch mit ‚Strained SOI‘ eindrucksvoll verdeutlicht.” Freescale evaluiert die Technologie derzeit für den Einsatz bei Strukturen von 45-nm und darunter. Erste Einsatzgebiete für die Freescale-eigene ‚Strained SOI‘-Technologie könnten beispielsweise intelligente Geräte für Netzwerke aller Art und Spielkonsolen darstellen, also Produkte, die auf geringe Stromaufnahme und hohe Rechenleistung getrimmt sind.


Die Technologie könnte vermutlich auch Freescales Kunden dabei helfen, wesentlich kompaktere und leistungsfähigere Unterhaltungselektronik- und intelligente Portabelgeräte zu konzipieren. Freescale hat sich bei SOI-Technologien eine Führungsposition erarbeitet und gehört zu den wenigen Unternehmen, die aktuell auch auf dieser Technologie basierende Produkte herstellen.


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