AP & S, Entwickler und Hersteller von nasschemischen Reinraumanlagen und -geräten zur Oberflächenbehandlung von Substraten, stellt die Nassprozessanlage Multistep vor. Die Anlage, die alle gängigen Nassprozesse wie Ätzen, Dünnen, Reinigen und Entfernen von Schichten verschiedenster Materialien abdeckt, zeichnet sich besonders durch ihre kompakte Größe, Anwenderfreundlichkeit und Zuverlässigkeit aus. Durch das flexible Design und das Robot-Handling ist sie für alle Substratgrößen von 50 bis 300 mm einsetzbar.


Mit einer Größe von 3000 mm x 1640 mm x 1800 mm deckt das System Funktionalitäten wie z. B. die Trocknung der Substrate über das Herzstück der Anlage, den vollintegrierten, patentierten Aero Sonic Dry, ab. Durch das anwenderfreundliche Handling für Installation, Inbetriebnahme und Implementierung in die bestehende Anlagenstruktur ist diese Plug & Run-Einheit selbst von Technikern ohne spezifische Kenntnisse der Nassprozesstechnologie nach kürzester Einführung in Betrieb genommen.