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High-k-Dielektrikum

Abkürzung für: Materialien mit einer höheren Permittivität oder Dielektrizitätszahl (k-Wert im Amerikanischen) als Siliziumoxid.
Definition: High-k-Dielektrika wie beispielsweise Hafniumoxid kommen im Gate-Aufbau von Transistoren in ICs ab der 45-nm-Technologie zum Einsatz. Sie ersetzen das bis dahin eingesetzte Siliziumoxid, da dieses auf Grund seiner geringen Dicke mit fortschreitender Skalierung zum Auftreten hoher Leckströme (v.a. Tunnelströme) führte. https://de.wikipedia.org/wiki/High-k-Dielektrikum
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