Die vollautomatisch arbeitende Siebdrucklinie zur partiellen Beschichtung von Silizium-Wafern von Thieme ist als Rundtaktanlage mit speziell entwickelten Drucknestern konzipiert. Der Bruttodurchsatz liegt bei 2 200 Wafern/h. Angepasste Materialtransportsysteme, integrierte Qualitätskontrollen und eine effektive Trocknung der Pasten sorgen für einen wirtschaftlichen Prozessablauf.

Für den Dünnschicht-Druck von Solarzellen hat Thieme eine vollautomatische R2R-Siebdruckanlage entwickelt, die an die besonderen Anforderungen der Dünnschichttechnologie angepasst ist. Bedruckt werden vorprozessierte Folien. Das Maschinenkonzept wird kundenspezifisch ausgelegt und bietet einen präzisen und reproduzierbaren Druck. Auch Glas kann als Trägermaterial für Dünnschicht-Solarzellen zum Einsatz kommen, beispielsweise für Architekturanwendungen. Für die Herstellung dieses Zellentyps bietet Thieme eine technologie- und kundenspezifisch adaptierbare Flachbett-Druckanlage an, die auf bewährten Thieme-Anlagenkonzepten für den Glasdruck basiert.

479pvs0708