Siemens_GlobalFoundry_Silicon-Photonics

Siemens arbeitet mit Globalfoundries zusammen, um vertrauenswürdige Silizium-Photonik-Verifikationen anzubieten. (Bild: Siemens)

Siemens Digital Industries Software gibt bekannt, dass die Calibre-nm-Plattform es Designern ermöglicht, die neue Silizium-Photonik-Plattform von Global Foundries (GF) zu nutzen. GF Fotonix, die monolithische Plattform der nächsten Generation von GF, kombiniert erstmals differenzierte 300-mm-Photonik- und HF-CMOS-Funktionen auf einem Siliziumwafer.

Die GF Fotonix Process Design Kits (PDKs) enthalten die Software Calibre nmDRC von Siemens zum Design Rule Check (DRC) und die Software Calibre LVS für die Layout vs. Schematic-Verifikation (LVS). Beide Werkzeuge sind vollständig von GF zertifiziert, sodass gemeinsame Kunden weiterhin die Calibre-nm-Plattform für Silizium-Photonik-Bauteile verwenden können.

Fotonix konsolidiert komplexe Prozesse, die zuvor auf mehrere Chips verteilt waren, auf einem einzigen Chip, indem es ein photonisches System, Hochfrequenz-Komponenten (HF) und eine komplementäre Metalloxid-Halbleiter-Logik (CMOS) auf nur einem Siliziumchip kombiniert.

Mit der Silizium-Photonik können Unternehmen Glasfaser direkt in integrierte Schaltungen bringen. Silizium-Photonik-Bauteile enthalten jedoch gekrümmte Layouts anstelle der linearen Manhattan-Rastermerkmale herkömmlicher CMOS-Designs. Die Anwendung traditioneller CMOS DRC auf Silizium-Photonik-Layouts führt zu zahlreichen falsch positiven Fehlern. Um dem zu begegnen, nutzt GF die Software Calibre eqDRC von Siemens, mit der Regelprüfungen Gleichungen anstelle oder zusätzlich zu linearen Messungen verwenden können. Das sorgt für genauere Ergebnisse und damit deutlich weniger Fehlern.

In ähnlicher Weise stellt die kurvenförmige Beschaffenheit photonischer Strukturen in Verbindung mit dem generellen Fehlen von Quellnetzlisten für Optiken beim LVS-Check eine Herausforderung dar. Herkömmliche IC-LVS-Technologie extrahiert physikalische Messungen aus bekannten elektronischen Strukturen und vergleicht sie mit den vorgesehenen entsprechenden Elementen in der Quellnetzliste. Bei gekrümmten Strukturen ist es jedoch schwierig oder sogar unmöglich zu erkennen, wo eine Struktur beginnt und eine andere endet. Das Fotonix PDK mit Calibre LVS löst dieses Problem durch die Verwendung von Text- und Markerschichten zur Erkennung von Untersuchungsbereichen.

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