Nanopräge-Lithographie und Linsenprägen

Nanopräge-Lithographie (links) und Linsenprägen (rechts) auf Waferebene ermöglichen kleinste Dimensionen und hohe Auflösungen für Anwendungen wie die 3D-Sensorik. (Bild: Delo)

Mit der Kooperation wollen die EV Group (EVG) und Delo ihre Arbeiten im Bereich Wafer-Level-Optiken (WLO) ausbauen und optische Komponenten und Anwendungen wie biometrische Authentifizierung und Gesichtserkennung für die Industrie-, Automobil- und Unterhaltungselektronik entwickeln. Dabei kommen EVGs Equipment- und Prozesslösungen für das Linsenprägen und die Nanopräge-Lithographie (NIL) sowie Klebstoffe und Resist-Materialien von Delo zum Einsatz. Durch die Zusammenarbeit soll das umfassende Material- und Prozess-Know-how genutzt werden, um die Entwicklung neuer Produkte und das Prototyping weiter zu beschleunigen und so die Roadmaps der Kunden beider Unternehmen zu ermöglichen.

Aus der Partnerschaft erhoffen sich die beiden Unternehmen verbesserte und beschleunigte Materialentwicklungszyklen. Die Aktivitäten rund um die Kooperation sollen sowohl am NIL-Photonics Competence Center am Hauptsitz von EVG im österreichischen St. Florian sowie am Delo-Hauptsitz in Windach stattfinden. Das NIL-Photonics Competence Center bietet Partnern entlang der NIL-Lieferkette einen Open-Access-Innovationsinkubator, um gemeinsam die Entwicklungszyklen innovativer Komponenten und Anwendungen zu verkürzen und deren schnellere Markteinführung zu ermöglichen. Die Infrastruktur umfasst Reinräume und Anlagen, die wichtige NIL-Herstellungsschritte wie Step-and-Repeat-Mastering, Linsenprägen und Smart NIL-Technologie sowie Waferbonden und Metrologie unterstützen.

(prm)

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