Der VSS-300 eignet sich für eine Vielzahl von Lötprozessen im Halbleiterbereich. (Bild: Unitemp)
Er verfügt über eine Bedieneroberfläche mit Touch Panel (7“ Displaygröße). Die Programmierung erfolgt mit einer Simatic SPS Steuerung. Das System kann bis zu 650°C bei einer maximalen Beladefläche von 300 mm x 300 mm betrieben werden. Die Kammerhöhe beträgt 75 mm (optional 120 mm). Damit lassen sich eine Vielzahl von Lötprozessen durchführen. Die Reinigung der Kammer ist einfach zu handhaben. Das Gerät ist sowohl als Tisch- oder als Standmodell mit integriertem Wärmetauscher erhältlich. In dem Unterschrank lässt sich auch eine Vakuumpumpe integrieren und erlaubt so eine optimale Ausnutzung von Laborplatz.
Der VSS-300 eignet sich für eine Vielzahl von Lötprozessen im Halbleiterbereich. Es sind bis zu 4 Gaslinien vorgesehen; unter anderem auch der Einsatz von 100% Wasserstoff. Hervorzuheben ist die Temperaturverteilung über die gesamte Heizfläche von lediglich max. +/‑ 1% von der gewünschten Temperatur in °C. Mit einem externen Pumpsystem ist ein Druck in der Prozesskammer bis zu 10‑6 hPa erreichbar. Eine Wasserkühlung ist für den Betrieb unbedingt erforderlich. Optional lässt sich die Kammer mit einem Remote-System öffnen, die Beladung erfolgt per Roboter.
Vakuum-Lötofen VSS-300 im Video
(sd)
