Mit der Kooperation wollen die EV Group (EVG) und Delo ihre Arbeiten im Bereich Wafer-Level-Optiken (WLO) ausbauen und optische Komponenten und Anwendungen wie biometrische Authentifizierung und Gesichtserkennung für die Industrie-, Automobil- und Unterhaltungselektronik entwickeln. Dabei kommen EVGs Equipment- und Prozesslösungen für das Linsenprägen und die Nanopräge-Lithographie (NIL) sowie Klebstoffe und Resist-Materialien von Delo zum Einsatz. Durch die Zusammenarbeit soll das umfassende Material- und Prozess-Know-how genutzt werden, um die Entwicklung neuer Produkte und das Prototyping weiter zu beschleunigen und so die Roadmaps der Kunden beider Unternehmen zu ermöglichen.

Nanopräge-Lithographie und Linsenprägen

Nanopräge-Lithographie (links) und Linsenprägen (rechts) auf Waferebene ermöglichen kleinste Dimensionen und hohe Auflösungen für Anwendungen wie die 3D-Sensorik. Delo

Aus der Partnerschaft erhoffen sich die beiden Unternehmen verbesserte und beschleunigte Materialentwicklungszyklen. Die Aktivitäten rund um die Kooperation sollen sowohl am NIL-Photonics Competence Center am Hauptsitz von EVG im österreichischen St. Florian sowie am Delo-Hauptsitz in Windach stattfinden. Das NIL-Photonics Competence Center bietet Partnern entlang der NIL-Lieferkette einen Open-Access-Innovationsinkubator, um gemeinsam die Entwicklungszyklen innovativer Komponenten und Anwendungen zu verkürzen und deren schnellere Markteinführung zu ermöglichen. Die Infrastruktur umfasst Reinräume und Anlagen, die wichtige NIL-Herstellungsschritte wie Step-and-Repeat-Mastering, Linsenprägen und Smart NIL-Technologie sowie Waferbonden und Metrologie unterstützen.