Wichtige Entscheidungen fallen oft zu Beginn – auch in einer SMT-Linie. Der Schablonendruck entscheidet maßgeblich über Qualität, Produktivität und Ausbeute. Entsprechend hoch sind die Anforderungen an die Schablonendrucker, gilt nach wie vor der Lotpastenauftrag auf die Platine als kritischer Prozess, und das umso mehr, je feiner die Strukturen werden. Daher drehen die Hersteller von Schablonendruckern kontinuierlich an der Optimierungsschraube. Dabei rückt nicht nur der schnelle, präzise und jederzeit exakt wiederholbare Druckprozess genauso ins Visier, wie eine modulare Bauweise, die sich flexibel an die sich rasch wechselnden Produktionen anzupassen vermag und auch eine intuitive, wartungsreduzierende Bedienung erlaubt.

Mit flotten Kernzykluszeiten und einer hohen Maschinengenauigkeit erfüllen die Schablonendrucker DEK Neo Horizon die heutigen Ansprüche an Geschwindigkeit, Effizienz und Genauigkeit.

Mit flotten Kernzykluszeiten und einer hohen Maschinengenauigkeit erfüllen die Schablonendrucker DEK Neo Horizon die heutigen Ansprüche an Geschwindigkeit, Effizienz und Genauigkeit. ASM

Flexible Konfiguration – jederzeit

High-Speed-Fertigung, hochflexible Bestückung kleinster Losgrößen, Pin-in-Paste, kleinste Bauteile und feinste Aperturen, Stufenschablonen, Leiterplatten mit speziellen Substraten, unterschiedlichste Pastentypen – mit den völlig überarbeiteten Schablonendrucker DEK-Neo-Horizon-iX-Plattform will ASM Assembly Systems (ASM) den steigenden Ansprüchen im Schablonendruckprozess genügen. Die komplett modular aufgebauten Systemen lassen sich nach Bedarf und Anwendung mit unterschiedlichen Klemmsystemen, Transporten, Sensor- und Kamerasystemen oder der neuesten Version des durchdachten Druckkopfsystems DEK Pro Flow ATx ausrüsten oder auch nachträglich aufrüsten. Mit Kernzykluszeiten von 7,5 s und einer Maschinengenauigkeit von bis zu 15 µm @ 2 Cmk erfüllen die Drucker höchste Ansprüche an Geschwindigkeit, Effizienz und Genauigkeit. Zudem sind sie mit einer neuen, besonders robusten Abdeckung ausgestattet und alle Eingriffe für Betrieb und Wartung können von der Vorderseite der Maschine erfolgen. Mit dem Back-to-Back-System ist eine smarte, besonders flexible und zukunftssichere Doppelspurlösung verfügbar: Zwei Drucker werden Rücken an Rücken gestellt, lassen sich aber weiter völlig unabhängig voneinander konfigurieren und betreiben. Bei Bedarf lässt sich die Doppelspur-Konfiguration auflösen, und die Drucker können wieder separat an unterschiedlichen Linien eingesetzt werden.

Optisch an das Unternehmensdesign von ASM angepasst bleibt der technische Grundaufbau der DEK Neo Horizon dem modularen Erfolgskonzept seiner Vorgänger treu, bieten sie den Elektronikfertigern alle Freiheiten in der Konfiguration, um den Drucker optimal an die jeweiligen Anwendungen und Prozesse anzupassen. Selbst nachträglich lassen sich die entscheidenden Komponenten über Optionen aufrüsten, falls neue Produkte oder neue Anforderungen der Endkunden dies erforderlich machen. Neben Optionen für Transporte, Toolings, Pastenhöhenkontrolle und Klemmungen stehen unterschiedliche Verifikationssysteme zur Auswahl.

Zwei Basiskonfigurationen erleichtern die Anpassung der Drucker an die jeweiligen Anforderungen. Das Modell 03 iX, ausgerüstet mit dem Kamerasystem DEK Hawk Eye 750, halbautomatischer Schablonenausrichtung und der neuen Unterseitenreinigung IUSC, empfiehlt sich mit Kernzykluszeiten (CCT) von 8,0 s und einer Maschinengenauigkeit von 20µm @ 2 Cmk für den Einsatz in hochflexiblen Fertigungen. Die Variante 01 iX zielt auf Anwendungen mit besonders hohen Ansprüchen an Genauigkeit und Durchsatz. Mit Kernzykluszeiten (CCT) von 7,5 s und einer erhöhten Maschinengenauigkeit von 15µm @ 2 Cmk wird das System diesen Anforderungen gerecht. Basis dieser gleichbleibend hohen Maschinengenauigkeit ist eine extrem stabile Rahmenkonstruktion. Torsionssteif und mit hoher Eigenresonanzfrequenz setzt dieser Rahmen das Fundament für Langlebigkeit.

Smarte Doppelspurlösung

Wo Volumenlinien eine Doppelspurlösung verlangen, lösen die ASM-Druckerexperten dies nicht mehr über eine starre Sonderlösung, sondern einfach über ein besonderes Setup: der DEK Neo Horizon Back-to-Back. Hierbei werden einfach zwei Drucker „Rücken an Rücken“ gestellt. Damit bieten die Drucker zwei Spuren und doppelte Leistung. Die Drucker lassen sich auch in der Doppelspurvarianten komplett separat konfigurieren, einstellen und betreiben. Dadurch ist es beispielsweise möglich, auf den Spuren unterschiedliche Produkte zu fertigen. Entfällt der Bedarf für eine Doppelspurlösung, wird die Konfiguration einfach wieder aufgelöst und die Drucker lassen sich wieder an separaten Linien einsetzen. DEK NeoHorizon Back-to-Back ist damit deutlich einfacher, flexibler und zukunftssicherer als andere Doppelspurlösungen.

Überdies verfügen die Drucker über einen High-Throughput-Conveyor. Über ein dreigeteiltes Transportband ist das simultane Aus- und Einfahren der Leiterplatten in den Druckbereich möglich, das eine weitere Verkürzung der Kernzykluszeit zur Folge hat.

Flotte Reinigung für hohen Durchsatz

Die iX-Druckerplattform bietet zwei Varianten für die automatische Unterseitenreinigung: die neue IUSC, basierend auf der etablierten blauen Unterseitenreinigung, und das weiter verbesserte High-Speed-Reinigungssystem DEK Cyclone. Das vollkonfigurierbare DEK Cyclone (nass, Vakuum, trocken, seitliche Oszillation) benötigt in der aktuellen Cyclone-Duo-Variante nur einen Reinigungsdurchgang und reduziert dabei den Zeit- und Materialbedarf, wie etwa das Reinigungsvlies, um bis zu 50 Prozent. Dabei lässt sich das Reinigungsvlies schnell und komfortabel in einer Kassette austauschen.

Beide Reinigungssysteme werden über die Software „DEK Instinctiv“ gesteuert. Zusätzlich ist es möglich, die Reinigungszyklen nach der integrierten Hawk-Eye-Inspektion vom Bediener zu initiieren oder über die Pro-DEK-Option von externen SPI-Systemen bedarfsabhängig anzusteuern.

Frei konfigurierbar lassen sich mit der Kamera DEK Hawk Eye bis zu 100 Prozent der Pastendepots optisch verifizieren, um fehlerhaft bedruckte Leiterplatten sofort auszusortieren.

Frei konfigurierbar lassen sich mit der Kamera DEK Hawk Eye bis zu 100 Prozent der Pastendepots optisch verifizieren, um fehlerhaft bedruckte Leiterplatten sofort auszusortieren. ASM

Pastendruck im Visier

Temperatur, Luftfeuchtigkeit, Vorbereitung der Paste, Rakeltypen, Standzeiten – das Prozessfenster für den optimalen Druck ist klein und von vielen Faktoren abhängig, weshalb ASM auch Neuerungen rund um den Pastenauftrag bereit hält. So warnt ein Lotpastensensor zuverlässig, wenn die Pastenmenge unter ein Minimum sinkt und die Druckqualität abzunehmen droht. Der Prozess wird entweder gestoppt, bis zusätzliche Lotpaste manuell aufgetragen wird, oder sie wird über die automatische Druckmedienzufuhr mittels Dispenser aufgetragen. Der Dispenser sorgt für eine gezielte Zuführung des Druckmediums, erhöht die Qualität des Druckprozesses und erlaubt schnellere Produktwechsel. Mit dem geschlossenen Druckkopf DEK Pro Flow lassen sich erstmals die meisten Parameter unabhängig kontrollieren und der Druckprozess weiter automatisieren. Damit ist eine hohe Flexibilität bei Pasten und Anwendungen gegeben – speziell auch für Pin-in-Paste-Prozesse.

Auch bei der Verifikation und Inspektion bleibt die iX-Plattform ihrem modularen Konzept treu. Anwendern stehen verschiedene interne und externe Lösungen zu Verfügung, um das Druckergebnis zu kontrollieren, die Bestückung fehlerhaft bedruckter Leiterplatten zuverlässig zu verhindern und Druckprozesse stetig zu optimieren. Dafür sorgt eine eigens konzipierte Kameralösung zur Inline-Kontrolle von Lotpastendepots. Frei konfigurierbar lassen sich mit der Kamera DEK Hawk Eye bis zu 100 Prozent der Pastendepots optisch verifizieren, um fehlerhaft bedruckte Leiterplatten sofort auszusortieren. Zur Auswahl stehen die Systeme DEK Hawk Eye 750 und 1700. So liefert das Modell 1700 ein dreimal größeres Verifikationsfenster und damit genügend Leistung für die zuverlässige Inline-Kontrolle großer Leiterplatten oder Mehrfachnutzen.

Die aktuellen DEK-Nano-Ultra-Schablonen liefern sind mit ihrer neuartigen Beschichtung für Ultra-Fine-Pitch-Anwendungen ausgelegt und sorgen so für hohe Prozesssicherheit bei feinsten Strukturen.

Die aktuellen DEK-Nano-Ultra-Schablonen liefern sind mit ihrer neuartigen Beschichtung für Ultra-Fine-Pitch-Anwendungen ausgelegt und sorgen so für hohe Prozesssicherheit bei feinsten Strukturen. ASM

Nano-Ultra-Schablonen für Fine Pitch

Auch auf dem Gebiet der Druckschablonen hat ASM nachgelegt: Deutlich verbesserte Druckergebnisse bei Ultra-Fine Pitch Anwendungen – das versprechen die neuen DEK-Nano-Ultra-Schablonen. Die Schablonen werden dafür mit einer neuartigen Beschichtung besprüht. Das Ergebnis: Bei feinen Aperturen mit Area Ratios <0,60 erhöht sich die Transfereffizienz der Lotpaste um bis zu 40 Prozent.. Um dies zu ermöglichen, werden die Schablonen mit einer dauerhaften, zwischen 2 und 4 µm dicken Beschichtung versehen – auf der Unterseite und an den Wänden der Aperturen. Die Beschichtung auf der Unterseite verbessert und beschleunigt die Reinigung, die Beschichtung an den Wänden der Aperturen erhöht die Transfereffizienz der Lotpaste deutlich. Unter dem Mikroskop zeigen sich sauber abgegrenzte, gleichmäßige und ausreichend große Depotvolumina, berichtet ASM.

Dieser Effekt wirkt nicht nur positiv auf die Druckqualität: Gleichzeitig sinkt der Bedarf an Lotpaste, für zeitraubende Reinigungsprozesse und Verbrauchsmaterialien, verspricht ASM. Der Durchsatz und Produktivität von Drucker und Linie steigen, die realen Zykluszeiten im Drucker verkürzen sich. Erstmals werden Druckprozesse in Fine Pitch Anwendungen gleichzeitig zuverlässig und effizient. Nano Ultra wurde von FCT Companies entwickelt und von ASM Assembly Systems, Printing Solutions Division, in Lizenz genommen. Nano Ultra wird nur in Europa vertrieben.

SMT Hybrid Packaging 2016: Halle 7, Stand 311

maximale prozesssicherheit

Mit der iX-Plattform will ASM weiter Maßstäbe setzen. Die völlig überarbeite Plattform erlaubt durch ihre hohe Flexibilität problemlos häufige Produktwechsel. Gepaart mit dem selbstlernenden Expertensystem ASM Process Expert, eröffnen die Schablonendrucker DEK Neo Horizon nun den Weg zur annähernd vollständigen Automatisierung der Druckprozesse und deren Optimierung. ASM Process Expert übernimmt dann die Einstellung der Druckparameter, leistet eine komplett autonome Kontrolle, sowie automatische Optimierung und Steuerung der Druckprozesse.