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Logik- und DRAM-Strukturen mit Einfachbelichtung erzeugen

Das ASML-Imec-Labor demonstriert die erste High-NA-fähige Logik- und Speichermusterung als erste Validierung von Industrieanwendungen. Die Ergebnisse zeigen das Potenzial der Technologie, 2D-Merkmale in einem einzigen Schritt zu ermöglichen.