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HSQ-Resists optimieren E-Beam-Lithographie

Strukturgrößen unter 10 nm stellen hohe Anforderungen an Material und Prozess. HSQ-basierte Resists wie Medusa 84 bieten hierfür eine leistungsfähige Lösung mit klaren Vorteilen in Auflösung, Stabilität und Prozesskompatibilität.