Optimale Reinigung bei geringer Ultraschall-Leistung

Zestron FA+

Redaktion Redaktion

6. November 2007 - 13:00

Das Reinigungsmedium Zestron FA+ verfügt über ein sehr großes Prozessfenster, wodurch selbst bei geringster Ultraschallleistung die unterschiedlichsten Flussmittelrückstände entfernt werden können.

Das Reinigungsmedium Zestron FA+ verfügt über ein sehr großes Prozessfenster, wodurch selbst bei geringster Ultraschallleistung die unterschiedlichsten Flussmittelrückstände entfernt werden können. Es ist ein lösemittelbasierendes Reinigungsmedium, das in Batchanlagen zur Flussmittelentfernung von elektronischen Baugruppen eingesetzt wird.

Der Reiniger basiert auf halogenfreien, organischen Lösemitteln und lässt sich problemlos rückstandfrei mit Wasser abspülen. Er zeichnet sich zudem durch eine extrem hohe Badbeladungskapazität aus und ermöglicht dadurch sehr lange Badstandzeiten.

588pr1107

(Martina Stieglmeier)