Staatliche Beihilfe für Halbleiterfertigung
EU genehmigt 659 Mio. Euro für Chipfertigung in Deutschland
Deutschland darf vier neue Halbleiteranlagen mit 659 Millionen Euro fördern. Die EU Kommission sieht darin einen Beitrag zu Versorgungssicherheit, Souveränität und Chipfertigung in Europa.
Die EU erlaubt Deutschland 659 Millionen Euro Beihilfe für vier neue Halbleiteranlagen in Baesweiler, Itzehoe, Weilburg und München.
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Die Europäische Kommission hat eine staatliche Beihilfe Deutschlands in Höhe von 659 Millionen Euro für vier neue Anlagen in der Halbleiter-Wertschöpfungskette genehmigt. Die Projekte sollen die Position Europas in der Chipindustrie stärken und neue Fertigungskapazitäten in Deutschland aufbauen.
Die Förderung betrifft Anlagen in Baesweiler, Itzehoe, Weilburg und München. Finanziert werden die Maßnahmen gemeinsam aus dem Bundeshaushalt und von den jeweiligen Landesbehörden. Die Kommission sieht die Projekte im Einklang mit den Zielen des europäischen Chip-Gesetzes und den politischen Leitlinien der Kommission für 2024 bis 2029.
Welche Halbleiterprojekte Deutschland fördern darf
Der größte Anteil der Förderung geht an Element 3-5 in Baesweiler in Nordrhein-Westfalen. Das Unternehmen erhält 353 Millionen Euro für eine neuartige Anlage zur Herstellung von Epiwafern aus Siliziumkarbid. Diese SiC-Epiwafer bestehen aus Siliziumkarbid-Wafern mit einer hochwertigen Zusatzbeschichtung und sollen unter anderem in den Bereichen Automobil, Industrie, Telekommunikation und Energie eingesetzt werden.
Vishay Siliconix Itzehoe erhält 214 Millionen Euro für neue Fertigungskapazitäten in Schleswig-Holstein. Dort sollen Silizium-Leistungs-MOSFETs des n- und p-Typs entstehen. Diese Leistungshalbleiter schalten oder steuern hohe Spannungen und Ströme in elektronischen Leistungsschaltungen und sind vor allem für Automotive-Anwendungen sowie industrielle und kommerzielle Elektronik relevant.
Warum Messtechnik und Spezialchips Teil der Förderung sind
KLA Tencor MIE erhält 74,4 Millionen Euro für den Standort Weilburg in Hessen. Das Unternehmen will dort fortschrittliche optische Overlay- und Schicht-Messtechnik einschließlich wichtiger Unterbaugruppen fertigen. Solche Systeme werden in der Prozesssteuerung und Qualitätssicherung der Halbleiterfertigung eingesetzt. Sie helfen Front-End- und Back-End-Herstellern, Erträge und Produktivität zu verbessern.
Die heutige Genehmigung der Förderung Deutschlands für vier neue Projekte in der Halbleiter-Wertschöpfungskette zeigt, dass Europa die Ziele des EU-Chip-Gesetzes in die Tat umsetzt. Wenn wir Innovationen im Halbleiterbereich unterstützen, stärken wir damit unsere technologische Souveränität und die Wettbewerbsfähigkeit Europas.
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KETEK erhält 17,9 Millionen Euro für eine Anlage in München. Dort sollen zwei Produktionslinien für Siliziumdriftdetektoren und Graphene Radiation Entry Windows entstehen. Die Spezialchips sind Schlüsselkomponenten für SDD-Detektoren, die unter anderem in industriellen Sortier- und Recyclingsystemen eingesetzt werden. Durch die Zusammenführung der Produktionslinien im Reinraum sollen Integration und Effizienz steigen.
An diese Bedingungen sind die Förderungen geknüpft
Die geförderten Unternehmen müssen eine breitere Wirkung ihrer Projekte auf die europäische Halbleiter-Wertschöpfungskette sicherstellen. Dazu gehören Kooperationen mit Universitäten und Forschungseinrichtungen sowie Weiterbildungsmaßnahmen, um mehr qualifizierte Fachkräfte aufzubauen.
Zudem haben sich die Unternehmen verpflichtet, im Fall von Versorgungsengpässen Aufträge vorrangig zu erfüllen. Mögliche projektbezogene Gewinne, die über die aktuellen Erwartungen hinausgehen, sollen mit Deutschland geteilt werden. Damit begründet die Kommission auch, warum die Beihilfe auf das notwendige Maß begrenzt sei.
Warum die EU Kommission die Beihilfe erlaubt
Die Kommission bewertet die vier Anlagen als erste ihrer Art in Europa. Aus ihrer Sicht fördern die Maßnahmen die Entwicklung eines wichtigen Wirtschaftszweigs und erhöhen die Krisenfestigkeit der europäischen Halbleiter Lieferkette. Zugleich sieht sie die Auswirkungen auf Wettbewerb und Handel innerhalb der EU als begrenzt an.
Die Unternehmen Element 3-5, Vishay, KLA und KETEK haben außerdem die Anerkennung ihrer Anlagen als integrierte Produktionsstätten nach der EU-Chip-Verordnung beantragt. Mit der Genehmigung handelt es sich laut Kommission um die Beschlüsse 15 bis 18 auf dieser Grundlage. Insgesamt wurden damit bereits Beihilfen von rund 14,2 Milliarden Euro für Halbleitertechnologien und Anwendungen in verschiedenen EU Mitgliedstaaten genehmigt.
