SiC-MOSFETs mit Temperaturstabilität für mehr Power
Stabil bei Hitze, effizient bei hoher Leistung und flexibel im Design: SiC-MOSFETs mit temperaturstabilem RDS(on) und Top-Side-Kühlung liefern die Antworten auf die Herausforderungen aktueller Leistungselektronik – von E-Mobilität bis Industrie.
Sebastian FahlbuschSebastianFahlbusch
4 min
Stabile RDS(on)-Werte, Top-Side-Kühlung, hohe Effizienz: Aktuelle SiC-MOSFETs erschließen neue Spielräume für EVs, PV und Industrieanwendungen.TPS Studio - stock.adobe.com
Anzeige
Temperaturstabile SiC-MOSFETs und Top-Side-Kühlung für kompakte Hochleistungssysteme
Nexperia erweitert sein SiC-MOSFET-Portfolio, um den steigenden Anforderungen in Anwendungen wie Elektrofahrzeugen, Photovoltaikwechselrichtern und industriellen Stromversorgungen gerecht zu werden. Im Fokus stehen ein temperaturstabiler Einschaltwiderstand RDS(on) und optimiertes Wärmemanagement für hohe Leistungsdichten.
Die SiC-MOSFETs von Nexperia zeigen im Vergleich zu Wettbewerbsbauteilen einen deutlich geringeren Anstieg des RDS(on) bei hohen Temperaturen. Das ermöglicht höhere Wandlerleistungen, bessere Effizienz und kostengünstigere Designs, etwa bei On-Board-Chargern und anderen hart schaltenden Umrichtern.
Durch topseitig gekühlte X.PAK-Gehäuse sinken die Bauteiltemperaturen gegenüber D2PAK-Lösungen um bis zu 40 °C, was mehr Leistungsdichte, kleinere Kühlkörper und höhere Schaltfrequenzen erlaubt. So werden kompaktere, zuverlässigere und wirtschaftlichere Systeme für E-Mobilität, Rechenzentren und erneuerbare Energien möglich.
Diese Infobox wurde von Labrador AI generiert und von einem Journalisten geprüft.
Siliziumkarbid (SiC) hat sich in den
letzten Jahren von einer Spezialtechnologie zu einem zentralen Baustein
moderner Leistungselektronik entwickelt. 2024 stellte Nexperia die ersten eigenen
Siliziumkarbid-(SiC-)MOSFETs vor um der wachsende Nachfrage nach effizienten Schaltbauelementen gerecht zu werden. Immer häufiger wird SiC-Technologie
in Anwendungen wie Wechselrichtern für Photovoltaik (PV), Elektrofahrzeugen
(EV) und industriellen Stromversorgungssystemen eingesetzt. Bei diesen
Anwendungen ist eine bessere thermische Leistung und höhere Leistungsdichte
entscheidend.
SiC-MOSFETs sind insbesondere für die Automobilindustrie wichtig,
weil sie eine höhere Effizienz und schnellere Schaltvorgänge in
Antriebssträngen von Elektrofahrzeugen ermöglichen und so Energieverluste
reduzieren. Da sie höhere Spannungen und Temperaturen verarbeiten können,
ermöglichen sie auch kleinere, leichtere und zuverlässigere Systeme, wodurch
die Reichweite erhöht und die Gesamtleistung des Fahrzeugs verbessert wird. Die
SiC-Produktpalette von Nexperia wurde seit Markteinführung um mehrere RDS(on)-Klassen,
verschiedene Gehäuseoptionen, darunter das für den Automobilbereich
qualifizierte D2PAK, und höhere Nennspannungen erweitert. Dieser
Artikel gibt einen Überblick über die wichtigsten Bauteileigenschaften, wie
einen temperaturstabilen Einschaltwiderstand (RDS(on)) und das
Wärmemanagement von Gehäusen – und betrachtet, wie diese sich in breitere
Trends beim Design von Stromversorgungssystemen und bei Beschaffungsstrategien
einordnen lassen.
Anzeige
RDS(on)-Stabilität: Warum SiC-MOSFETs bei 175 °C effizient bleiben
Bild 1: SiC-MOSFETs von Nexperia weisen die niedrigste Drift des RDS(on) in der Branche auf.Nexperia
SiC-MOSFETs mit niedrigem RDS(on) verringern Leistungsverluste in Leistungselektroniksystemen, was zur Folge hat,
dass sie höheren Strömen bei höherer Schaltfrequenz standhalten können und
somit eine höhere Leistungsdichte ermöglichen. Eine bemerkenswerte weitere
Eigenschaft der SiC-MOSFETs von Nexperia gegenüber Bauelementen anderer
SiC-Hersteller ist jedoch, dass sie einen äußerst stabilen RDS(on) aufweisen (Bild 1), insbesondere in Situationen mit hoher Belastung
der Anwendung, wenn die Sperrschichttemperatur des SiC-MOSFETs ansteigt. Bei
einem SiC-MOSFET von Nexperia mit einem RDS(on) = 40 mΩ
bei 25 °C steigt dieser Wert beispielsweise nur um den Faktor 1,5 (auf ca.
60 mΩ), wenn die Betriebstemperatur auf 175 °C ansteigt. Dies ist
eine erhebliche Verbesserung gegenüber anderen Konkurrenzprodukten, bei denen der
RDS(on) in der Regel um das Doppelte auf 80 mΩ oder sogar mehr
ansteigt. Das bedeutet, dass sie bei erhöhten Temperaturen nicht demselben
Strom standhalten, obwohl sie bei 25 °C gleich bewertet sind. Besonders
vorteilhaft ist dies bei Anwendungen wie On-Board-Charger (OBC) in
Elektrofahrzeugen, die eine typische Schaltfrequenz von 60 kHz oder höher
aufweisen.
Bild 2: Der 60-mΩ-SiC-MOSFET von Nexperia bietet eine höhere Effizienz als ein 40-mΩ-Konkurrenzprodukt.Nexperia
Infolgedessen muss das Rating von
Konkurrenzprodukten im Vergleich zu den SiC-MOSFETs von Nexperia für den
Einsatz bei höheren Temperaturen heruntergestuft werden. Dank der überlegenen
Temperaturstabilität der SiC-Schaltelemente von Nexperia können Ingenieure bei
Verwendung desselben RDS(on) (im Vergleich zu ähnlich bewerteten
Konkurrenzprodukten) höhere Wandlerleistungen erzielen. Dies ist in Bild 2 dargestellt, die die Messergebnisse eines hartschaltenden
Abwärtswandlers zeigt, der bei 800 V bis 400 V mit einer
Schaltfrequenz von 64 kHz in einem D2PAK-7-Pin-Gehäuse
betrieben wird. Die höhere Effizienz des Nexperia Produkts kann durch die
höhere Stabilität länger aufrecht erhalten werden, was dem Anwender ermöglicht
eine höhere Ausgangleistung bei höherer Effizienz zu erzielen.
Anzeige
Bild 3 zeigt, wie Entwickler
alternativ eine kostengünstigere Stromversorgung (bei 25 °C) aus demselben
Wandler erzielen können, wenn sie ein Nexperia SiC-Schaltelement mit einem
höheren RDS(on)-Wert verwenden. In diesem Fall ist ein Nexperia-Produkt mit 60 mΩ mit einem 40
mΩ Produkt eines Marktbegleiters verglichen
worden. Trotz des unterschiedlichen Start Einschaltwiderstands wird ein höherer
Wirkungsgrad durch das Nexperia-Produkt erzielt. Zurückzuführen ist dies erneut
auf den Temperaturstabilitätsvorteil der Nexperia-SiC-MOSFET-Technologie.
Bild 3: Der Nexperia-SiC-MOSFET bietet eine höhere Effizienz und höhere Ausgangsleistung als andere SiC-Schaltelemente mit dem gleichen RDS(on)-Wert.Nexperia
Die
oberseitige Kühlung der nächsten Generation bietet Entwicklern noch mehr
Freiraum
Während die mit D2PAK-SiC-MOSFETs
erreichbare Leistungsstufe bereits beeindruckend ist, lassen sich jedoch mit
Schaltelementen im Nexperia X.PAK, dem oberseitig gekühlten Gehäuse (Top-Side
Cooling – TSC) der nächsten Generation, noch höhere Leistungsstufen erzielen.
Diese haben denselben Chip, nutzen jedoch die oberseitige Kühlung, indem sie
den thermischen Stapel optimieren und die Kühlung über die Leiterplatte, auf
der ein Bauteil montiert ist, die bei herkömmlichen SMD-Bauteilen mit
unterseitiger Kühlung üblich ist, überflüssig machen.
Anzeige
Während beispielsweise ein 40-mΩ-D2PAK-MOSFET
in Fall der 800-V- zu 400-V-Wandlung bei einer Wandlerleistung von 7,5 kW eine
Temperatur von 115 °C erreicht, bleibt ein TSC-Bauteil mit identischer
Chiptechnologie und Chipgröße bei einer viel niedrigeren Temperatur von nur
75 °C, was einer Verringerung von bis zu 40 °C entspricht
(Bild 4). Die höhere Kühleffizienz können Ingenieure
vielseitig für die Optimierung ihre leistungselektronische Anwendung ausnutzen.
Bild 4: Bei 7,5 kW ist der TSC-SiC-MOSFET von Nexperia 40 °C kühler als vergleichbare SiC-Schaltelemente von Wettbewerbern.Nexperia
Beispielsweise führt die höhere Leistung
des Systems mit TSC-Bauteilen bei gleichem Bauraum zu höherer Leistungsdichte.
Oder der Kühlköper wird entsprechend verkleinert, sollte die Zielleistung des
Wandlers ausreichend sein. Beides führt zur Erhöhung der Leistungsdichte und
die Verkleinerung des Kühlkörpers zu Kostenvorteilen. Alternativ haben
Entwickler die Möglichkeit, die Schaltfrequenz in ihren Ladegeräten zu erhöhen
und dadurch den Vorteil kleinerer passiver Komponenten (insbesondere
Magnetkomponenten) zu nutzen. Kleinere passive Komponenten tragen dazu bei,
Größe, Gewicht und Kosten der gesamten Ladelösung zu reduzieren – ein
außerordentlich wichtiger Aspekt bei EV-Konstruktionen mit begrenztem Platz,
die mit Batterien mit begrenzter Ladekapazität betrieben werden.
So profitieren EV- und PV-Anwendungen von temperaturstabiler SiC-Technologie
Ein weiterer Vorteil von
SiC-MOSFET-Schaltelementen mit höherer Strombelastbarkeit besteht darin, dass
sie weniger Wärme erzeugen, was die Lebensdauer und Zuverlässigkeit in
kostspieligen Langzeitanwendungen wie Elektrofahrzeugen und PV-Anlagen
verbessert. Bei Anwendungen mit geringerer Leistung haben Entwickler darüber
hinaus die Möglichkeit, MOSFETs mit einem höheren RDS(on)-Wert zu
verwenden, die in der Regel einen kleineren Chip haben und daher eine
kostengünstigere Lösung bieten können.
Wachstumsmarkt Siliziumkarbid: Anwendungen von EV bis Mining
Die drei wichtigsten Märkte für
Siliziumkarbid sind derzeit Elektrofahrzeuge, Rechenzentren für KI-Anwendungen
und die Umwandlung erneuerbarer Energien. Zu den aufstrebenden Märkten für
diese Bauelemente gehören jedoch auch Ausrüstungen wie Schwerlastfahrzeuge, die
im Bauwesen und Bergbau eingesetzt werden. Bei diesen Maschinen ist es
wünschenswert, den erforderlichen Ladeaufwand zu minimieren, da dieser ihre
Einsatzzeit einschränkt. SiC-MOSFETs ermöglichen eine höhere Ladeleistung,
sodass diese Maschinen ihre Batterien schneller und auch kosteneffizienter aufladen
können. SiC-MOSFETs werden auch zunehmend in Schwerindustrie-Umgebungen mit
großen motorbasierten Systemen und anderen Anwendungen mit einem
Dauereinsatzprofil wie Heizungs-, Lüftungs- und Klimaanlagen (HLK) eingesetzt
werden. Im Wesentlichen können SiC-MOSFETs in stromintensiven Anwendungsfällen
einen Mehrwert bieten, in denen aufgrund hoher Energiekosten die
Gesamtbetriebskosten immer wichtiger werden. Da die Daten zur Zuverlässigkeit
von SiC-MOSFETs über die gesamte Lebensdauer immer umfangreicher werden, werden
diese Bauelemente immer häufiger in Luftfahrtsystemen eingesetzt werden, um den
CO2-Fußabdruck von Flugzeugen zu reduzieren.
Fazit
Anzeige
Da sich die Leistungselektronik in
Bereichen wie Mobilität, erneuerbare Energien und industrielle Automatisierung
immer weiterentwickelt, halten Ingenieure nach Komponententechnologien
Ausschau, die ein Gleichgewicht zwischen Leistung, Versorgungssicherheit und
Designflexibilität bieten. Die Stabilität des RDS(on)-Betriebstemperaturprofils,
die oberseitige Kühlung und der erweiterte Spannungsbereich des Nexperia
SiC-Portfolios belegen, wie Fortschritte auf Ebene der Bauelemente zu echten
Designvorteilen führen können. Mit zunehmender Verbreitung werden die
kontinuierliche Zusammenarbeit in der Branche und transparente
Zuverlässigkeitsdaten entscheidend sein, um das volle Potenzial der
vielseitigen SiC-Technologie in Systemen der nächsten Generation auszuschöpfen. (na)
Autor:
Sebastian Fahlbusch,
Head of Product Application Engineering für Siliziumkarbid bei Nexperia