Warum Glas Substrate Interposer und Photonik vorantreiben
Glas wird Schlüsseltechnologie im Halbleiter-Packaging
Glas spielt in der Halbleiterfertigung schon heute eine wichtige Rolle. In den kommenden Jahren rückt es jedoch ins Zentrum moderner Packaging-Konzepte. Treiber sind KI-Hochleistungsrechner Hochfrequenztechnik und die Integration von Photonik.
Glas in der Halbleitertechnik ist kein visionäres
Zukunftsprojekt, sondern bereits fest in der Fertigung verankert. Ultraflache
Borosilikat Carrier stabilisieren Silizium Wafer beim Backside Thinning.
Natriumfreie Gläser kommen als hermetische Kappen für MEMS-Bauelemente zum
Einsatz. Glas mit niedrigem thermischem Ausdehnungskoeffizienten dient als
Basis für zahlreiche Wafer Level Fan Out Prozesse.
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Klassische Through Silicon Vias im Vergleich zu Through Glass ViasIDTechEx
Bislang agierte Glas dabei meist im Hintergrund als Hilfs- und Trägermaterial. Diese Rolle verändert sich jedoch zunehmend. Immer häufiger
übernimmt Glas aktive Funktionen im Package. Es bildet das Kernsubstrat, verbindet Chiplets über Interposerstrukturen und fungiert als Dielektrikum für
hochfrequente elektrische Signale oder für optische Wellenleiter.
Steigende Anforderungen treiben den Materialwechsel
Auslöser dieser Entwicklung sind die rapide wachsenden
Leistungs- und Bandbreitenanforderungen moderner KI- und High-Performance-Computing-Systeme. Aktuelle Trainingsbeschleuniger benötigen tausende High-Speed-IO-Verbindungen sowie extrem leistungsfähige Stromversorgungsnetze mit
Strömen von mehreren hundert Ampere bei minimalem Rauschen.
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Organische Substrate, die über viele Jahre den Standard im
Packaging darstellten, geraten hierbei an physikalische Grenzen. Mit steigender
Via-Dichte und wachsendem Bedarf an Ebenheit nimmt der Fertigungsaufwand
deutlich zu. Silizium Interposer bieten zwar sehr feine Leiterstrukturen, sind
jedoch teuer und in ihrer Größe limitiert.
Borosilikat-Glas und Quarzglas (Fused silica) kommen am häufigsten zum Einsatz.IDTechEx
Glas positioniert sich zwischen diesen beiden Ansätzen. Der
thermische Ausdehnungskoeffizient lässt sich gezielt an Silizium anpassen.
Gleichzeitig weist Glas bei hohen Frequenzen deutlich geringere dielektrische
Verluste auf. Bei 40 Gigahertz liegt der Verlustfaktor etwa um eine
Größenordnung unter dem von Silizium. Hinzu kommt das Potenzial zur
Großflächenverarbeitung. Verfahren aus der Displayindustrie ermöglichen
Panelgrößen von bis zu einem halben Meter Kantenlänge. Mit steigenden Ausbeuten
nähern sich die Kosten hochwertigen organischen Substraten an.
Diese Eigenschaften machen Glas zu einem ernstzunehmenden
Kandidaten für zukünftige Substrat- und Interposerlösungen im KI- und HPC- Umfeld.
Entsprechend intensiv wird die Technologie derzeit evaluiert.
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Industrie bereitet den Einstieg in die Serienfertigung
vor
Mehrere große Akteure entlang der Wertschöpfungskette
treiben glasbasierte Packaging Konzepte voran. Intel hat glasbasierte
Testfahrzeuge auf seiner Entwicklungsfertigung in Arizona vorgestellt. Samsung
Electronics untersucht Glas Kerne als mögliche Ergänzung zu seinen I Cube und H
Cube Architekturen. Der Substrathersteller SKC betreibt eine Pilotlinie für das
Bohren und Metallisieren von 500 Millimeter Glas Panels. AGC liefert
Borosilikatglas mit niedrigem thermischem Ausdehnungskoeffizienten für erste
Qualifizierungen.
Zwar hat bislang kein Unternehmen einen konkreten
Serienstart angekündigt. Die parallelen Aktivitäten signalisieren jedoch klar,
dass Glas als Substratmaterial strategisch ernst genommen wird. Für Advanced
Packaging und IC Substrate rückt Glas damit aus der Nische in den Fokus der
Entwicklung.
Bei der 3D-Integration erfolgt das Bohren direkt auf den Chips. 2.5D benötigt InterposerIDTechEx
Hochfrequenz und Photonik als zusätzliche
Wachstumstreiber
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Neben klassischen Compute Anwendungen eröffnet Glas weitere
Märkte in der Hochfrequenztechnik und der integrierten Photonik. Aufgrund der
geringen dielektrischen Verluste zeigt eine Glas Microstrip Leitung im Ka Band
und darüber etwa halb so hohe Einfügedämpfung wie eine vergleichbare organische
Struktur. Für RF Module und zukünftige Sub Terahertz Anwendungen ist das ein
entscheidender Vorteil.
Ein zusätzlicher Impuls kommt aus dem Bereich Co Packaged
Optics. Ziel ist es Glasfaseranschlüsse nicht mehr am Front Panel eines
Switches zu realisieren sondern direkt auf dem Substrat in unmittelbarer Nähe
des Switch ASICs. Speziell entwickeltes Glas kann dabei sowohl elektrische
Redistribution Layer als auch optische Wellenleiter integrieren. Die präzise
Ausrichtung vereinfacht sich und separate siliziumphotonische Interposer werden
überflüssig.
Da die für RF Anwendungen etablierte Through Glass Via
Technologie auch vertikale optische Durchführungen erlaubt lassen sich auf
einem Glas Kernsubstrat elektronische und photonische Funktionen kombinieren.
Transimpedanzverstärker Laser Treiber und optische Wellenleiter können so auf
einer gemeinsamen Plattform integriert werden. Damit wächst der Einsatzbereich
von Glas deutlich über das klassische Elektronik Packaging hinaus.
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Lieferkette entscheidet über den Marktdurchbruch
Ob Glas den Schritt von der Pilotfertigung in die
Volumenproduktion schafft hängt weniger von der Verfügbarkeit des Rohmaterials
ab. Glasschmelzen sind weltweit vorhanden. Kritisch ist vielmehr der Aufbau
eines stabilen Ökosystems aus Laserbohrverfahren Kupferfüllprozessen Panel
Handling und ausgereiften Design Tools.
Lernkurven bei der Ausbeute die Zuverlässigkeit der Via
Metallisierung das Warpage Verhalten großformatiger Panels sowie der Reifegrad
der Design Kits bestimmen ob glasbasierte Lösungen die Kostenziele der
Systemintegratoren erreichen. Für Entwickler und Entscheider ist es daher
entscheidend zu wissen welche Unternehmen Kapazitäten aufbauen welche Prozesse
den Übergang in den Dauerbetrieb schaffen und wie schnell Designwerkzeuge
hochfrequente Verluste oder mechanische Verzüge präzise abbilden können.
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Gleichzeitig bleibt der Wettbewerb mit Silizium und
weiterentwickelten organischen Substraten dynamisch. Foundries treiben hybride
Wafer Level Redistribution voran und reduzieren damit den Strukturvorteil von
Glas. Laminathersteller entwickeln neue ABF Materialien mit geringerer
Oberflächenrauheit und besserer thermischer Anpassung. Eine differenzierte
Betrachtung zeigt daher klar, in welchen Anwendungen Glas seine Stärken
ausspielt und wo es auch langfristig eine Speziallösung bleiben wird.