Halbleiter-Packaging, Materialien und Fertigungsprozesse
Materialien treiben die Zukunft des Advanced Semiconductor Packaging
2.5D- und 3D-Packaging gelten als Schlüsseltechnologien für KI- und Hochleistungsprozessoren. Neue Interposer-Materialien, Cu-Cu-Hybridbonding und optimierte Thermal Interface Materials entscheiden zunehmend über Leistung, Ausbeute und Produktionskosten.
2.5D- und 3D-Halbleiter-Packaging: Neue Materialien, Cu-Cu-Hybridbonding und moderne Wärmeleitmaterialien treiben KI- und HPC-Chips voran.IDTechEx
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Mit steigenden Anforderungen an Rechenleistung und Energieeffizienz stoßen klassische Gehäusetechnologien in der Halbleiterfertigung an ihre Grenzen. Statt immer größerer monolithischer Chips setzen Hersteller zunehmend auf Chiplet-Architekturen, die über fortschrittliche Packaging-Technologien miteinander verbunden werden.
Vor allem 2.5D-Packaging sowie 3D-Integration mittels Kupfer-Kupfer-Hybridbonding (Cu-Cu Hybrid Bonding) gelten als zentrale Technologien der kommenden Jahre. Ihr wirtschaftlicher Erfolg hängt jedoch nicht allein von den Fertigungsprozessen ab. Ebenso entscheidend sind geeignete Materialien, eine präzise Prozesskontrolle und hohe Fertigungsausbeuten.
Welche Packaging-Technologien Chiplets wirtschaftlich machen
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Bei 2.5D-Packages werden mehrere Chiplets horizontal über einen Interposer miteinander verbunden. Aktuell konkurrieren dabei drei Materialplattformen miteinander: Silizium, organische Substrate und Glas.
Silizium-Interposer bleiben Maßstab für High-Performance-Computing
Silizium-Interposer gelten insbesondere im High-Performance-Computing (HPC) als Industriestandard. Sie ermöglichen extrem feine Leiterbahnstrukturen und hohe Integrationsdichten.
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Nachteilig sind jedoch die vergleichsweise hohen Herstellungskosten sowie Einschränkungen bei der maximalen Package-Größe. Als Weiterentwicklung gewinnen deshalb sogenannte lokale Silizium-Brücken an Bedeutung, die nur dort eingesetzt werden, wo höchste Verbindungsdichten erforderlich sind.
Organische Interposer senken die Kosten im Advanced Packaging
Organische Interposer stellen vor allem aus wirtschaftlicher Sicht eine attraktive Alternative dar. Besonders Fan-Out Panel Level Packaging (FOPLP) verbessert die Flächenausnutzung deutlich und kann die Packaging-Kosten gegenüber klassischen Ansätzen um bis zu 60 Prozent reduzieren.
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Organische Interposer stellen vor allem aus wirtschaftlicher Sicht eine attraktive Alternative dar. Besonders Fan-Out Panel Level Packaging (FOPLP) verbessert die Flächenausnutzung deutlich und kann die Packaging-Kosten gegenüber klassischen Ansätzen um bis zu 60 Prozent reduzieren.IDTechEx
Die Herausforderung besteht allerdings darin, ähnlich feine Leiterbahnstrukturen wie bei Silizium zu realisieren.
Glas-Interposer könnten große KI- und HPC-Packages skalierbar machen
Als besonders aussichtsreiche Materialplattform gelten Glas-Interposer beziehungsweise Glass Core Substrates (GCS). Sie kombinieren mehrere Vorteile:
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hohe Routing-Dichte
ausgezeichnete Dimensionsstabilität
geringere Verformung großer Packages
anpassbarer thermischer Ausdehnungskoeffizient
geringe elektrische Signalverluste
Eignung für Panel-Level-Prozesse
Gerade für große KI- und HPC-Packages könnte Glas dadurch eine wichtige Rolle spielen.
Der Weg zur Serienfertigung ist jedoch anspruchsvoll. Zu den größten Herausforderungen zählen die Herstellung und Metallisierung von Through-Glass-Vias (TGV), die Handhabung großer Glaspanels, mechanische Zuverlässigkeit, Rissbildung sowie die Kontrolle von Verunreinigungen und Prozessschwankungen.
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Eine hohe Ausbeute lässt sich nur durch das Zusammenspiel aus optimiertem Design, geeigneten Materialien und präzise abgestimmten Fertigungsprozessen erreichen.
Wie Cu-Cu-Hybridbonding die 3D-Integration von Halbleitern vorantreibt
Für dreidimensional integrierte Halbleiter gewinnen Cu-Cu-Hybridbonding-Verfahren zunehmend an Bedeutung. Dabei haben sich zwei Fertigungsansätze etabliert.
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Wafer-to-Wafer-Bonding erhöht den Durchsatz bei identischen Chips
Beim Wafer-to-Wafer-Bonding (W2W) werden komplette Wafer in einem einzigen Prozessschritt miteinander verbunden.
Das Verfahren profitiert von einer gleichmäßigen Geometrie, was die Ausrichtung vereinfacht und hohe Produktionsgeschwindigkeiten ermöglicht. Allerdings eignet sich W2W nur eingeschränkt für unterschiedlich große Chips und setzt weitgehend identische Wafer voraus.
Beim Die-to-Wafer-Verfahren (D2W) werden einzelne Chips präzise auf einen Zielwafer aufgebracht. Dadurch lassen sich Dies unterschiedlicher Größe und Funktion innerhalb eines Packages kombinieren – ein entscheidender Vorteil für Chiplet-Architekturen.
Die höhere Flexibilität geht jedoch mit deutlich höheren Anforderungen an die Fertigung einher. Bereits kleinste Partikel oder minimale Fehlausrichtungen können die Bondqualität erheblich beeinträchtigen.
Weitere Herausforderungen entstehen durch:
unterschiedliche Chip-Geometrien
asymmetrische Bondprozesse bei hohen Seitenverhältnissen
den Einsatz flexibler Trägermaterialien während des Dicing
längere Wartezeiten zwischen Prozessschritten, die die Oberflächenqualität verschlechtern können
Neue integrierte Hybridbonding-Anlagen sollen diese Probleme künftig reduzieren und die industrielle Umsetzung erleichtern.
Mit steigender Leistungsdichte wächst auch die Bedeutung eines effizienten Wärmemanagements.
In 2.5D-Packages befinden sich Hochleistungsprozessoren und HBM-Speicher häufig unter einem gemeinsamen Heatspreader. Dadurch entstehen hohe Gesamtverlustleistungen und lokale Hotspots.
Noch anspruchsvoller ist die Situation bei 3D-Packages. Dort entstehen Wärmequellen innerhalb gestapelter Dies, deren Abwärme nur schwer nach außen abgeführt werden kann.
Welche Thermal Interface Materials für Chiplet-Packages infrage kommen
Thermal Interface Materials (TIM) übernehmen eine zentrale Rolle beim Wärmetransport zwischen Chip und Kühlstruktur.
Bei der Materialauswahl spielen mehrere Kriterien eine Rolle:
geringer thermischer Widerstand
hohe Wärmeleitfähigkeit
mechanische Zuverlässigkeit
gute Kontaktqualität
einfache Testbarkeit
wirtschaftliche Herstellbarkeit
Eignung für die Serienproduktion
Derzeit werden verschiedene Materialkonzepte untersucht. Dazu gehören polymerbasierte Wärmeleitpasten ebenso wie metallische TIM-Lösungen auf Indiumbasis, Flüssigmetalle sowie graphenbasierte Materialien.
Materialien entscheiden über die Zukunft des Advanced Packaging
Mit der zunehmenden Verbreitung von Chiplet-Architekturen und KI-Beschleunigern werden Materialien zu einem wesentlichen Innovationstreiber im Advanced Semiconductor Packaging. Während Silizium weiterhin höchste Integrationsdichten ermöglicht, gewinnen organische Substrate und insbesondere Glas aufgrund ihrer Skalierbarkeit und Wirtschaftlichkeit an Bedeutung. Gleichzeitig werden Cu-Cu-Hybridbonding sowie leistungsfähige Thermal Interface Materials entscheidend dafür sein, die steigenden Anforderungen an Performance, Energieeffizienz und Fertigungsausbeute zukünftiger Halbleitersysteme zu erfüllen.